마이크로파 합성/추출 반응 워크스테이션 BMS-II Plus

주요 기술적인 매개변수:

엘 마이크로파 전력은 반응 과정에서 정밀한 폐쇄 루프 PID 기술을 통해 인버터 제어를 실현합니다. 비펄스 마이크로파 연속 가열, 전력의 자동 변화 범위: 0 ~ 1000W, 전력은 인버터 기술 및 폐쇄를 통한 온도 프로그래밍으로 자동 조정 가능 - 루프 제어 기술.

l 대용량 및 다층 테프론 스프레이가 있는 스테인리스 캐비티. 전자 레인지 캐비티의 열린 입구는 인체에 ​​안전하며 전자 레인지 누출은 국가 표준보다 훨씬 낮습니다. 부식 방지 고성능 통풍 팬의 배기 풍량은 5.8 M3/Min으로 빠른 냉각을 실현합니다.

l 표준 구성 제품에는 표준 인터페이스(용량 50ml ~ 1000ml)가 있는 반응 용기가 포함됩니다. 다양한 실험 조건을 선택할 수 있으며 불활성 보호 가스 인터페이스, 환류 응축, 액적 및 물 전환과 같은 일부 장치가 장착되어 있습니다.

l 50세트의 반응 프로그램이 내장되어 있어 사용자가 마음대로 편집하고 저장할 수 있습니다. 각 반응 파라미터(scheme, step, temperature, time and power 등)가 보여지고 제어되며, 반응 온도는 시간에 따른 곡선으로 표시됩니다.

l 사진 장치는 Furnace 챔버와 TFT 컬러 LCD 모니터가 장착되어 있으며 Furnace 외부에는 반응 과정을 시간에 따라 관찰할 수 있습니다.

엘 다중 응용 분야: 이 장비는 유기 합성, 제약 화학, 유기 추출, 식품 과학, 분석 화학, 무기 화학, 단백질 연구, 석유 화학 공학 및 재료 화학과 같은 관련 분야에서 널리 사용되며 새로운 유형의 반응 플랫폼을 제공합니다. 일반 난방 플랫폼보다 우수합니다.

l 이 장비에는 반응 절차를 표시, 기록, 호출 및 저장하는 소프트웨어가 장착되어 있습니다.

엘 2가지 교반 유형: 즉, 기계적 교반 및 자기 교반, 다양한 반응 물질에 따라 마음대로 전환할 수 있으며 교반 속도를 지속적으로 조정 및 표시할 수 있습니다. 마그네틱 교반 회전 속도는 무단 속도로 30 ~ 1600 r/min이며 일반 용액 반응에 적용됩니다. 디지털 패들 형 기계적 교반 회전 속도는 무단 속도로 30 ~ 1700 r/min이며 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 교반 할 수 있으며 고점도 액체의 반응 실험에 적용됩니다.

l 듀얼 채널 온도 감지(DTD) 기술은 Pt100 열전대뿐만 아니라 비접촉 적외선을 통해 온도를 감지할 수 있습니다. 시스템은 자동으로 온도 측정 유형을 결정하고 실시간으로 반응 온도를 모니터링 및 제어합니다. 적외선 온도 측정 범위는 ±1℃의 정밀도로 0℃~900℃이며, Pt100 열전대 온도 측정 범위는 ±1℃의 정밀도로 0℃~300℃입니다. 표준 장비의 최대 작동 온도는 300℃입니다.

기술적인 매개변수: